化學(xué)氣相沉積(CVD)和刻蝕在半導(dǎo)體加工中得到了廣泛的應(yīng)用，等離子清洗設(shè)備品牌CVD可用于多晶硅薄膜、氮化硅薄膜、二氧化硅薄膜和鎢等金屬薄膜的沉積。另外，微三級管和電路中起連接作用的細(xì)導(dǎo)線也采用了CVD技術(shù)在絕緣層上。CVD反應(yīng)過后，部分殘留物會(huì)在CVD反應(yīng)腔內(nèi)壁沉積，這里的危險(xiǎn)在于，這些殘留物將從內(nèi)壁脫離出來，污染了隨后的循環(huán)過程。所以，在新的沉積工藝開始之前，需要用等離子清洗機(jī)清洗CVD腔，以保持合格產(chǎn)品輸出。

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Crf 品牌等離子清洗機(jī)比電暈處理更有效： Crf 品牌等離子清潔器很容易與放電和電暈放電混淆。兩者的區(qū)別之前已經(jīng)介紹過，這里不再贅述。對于電暈處理，空氣通常在大氣壓附近直接電離。當(dāng)用于聚合物材料的處理時(shí)，具有微米表面厚度的層會(huì)分解并消失。因此，膜的處理可以使膜變薄，甚至通過開口。因此，電暈處理膜厚一般應(yīng)為25μm以上，等離子表面處理應(yīng)小于20μm。

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一些顆粒還會(huì)與材料表面發(fā)生碰撞，影響材料的表面性能。當(dāng)品牌等離子設(shè)備的等離子體與高能物質(zhì)接觸時(shí)，材料表面會(huì)分解聚合物產(chǎn)生自由基。等離子體含有高水平的紫外線輻射，可以在塑料或 PTFE 表面產(chǎn)生額外的自由基。由于物質(zhì)的不穩(wěn)定性，自由基可以與物質(zhì)本身迅速反應(yīng)。這樣可以在材料表面形成穩(wěn)定的共價(jià)鍵，可以印刷或膠合。如今，該品牌在電子行業(yè)、手機(jī)制造、汽車制造、紡織、生物醫(yī)藥、新能源和航空航天等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

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