在體輻射紫外光的作用下，薄膜去膠將某些官能團引入裝飾單板表面，導(dǎo)致表面物理腐蝕，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)層，或產(chǎn)生表面自由基。同時顯著提高了塑料薄膜對單板表面的潤濕性，改善了界面粘合性能，降低了粘合溫度，避免了柔性裝飾單板因過度熱壓而變色、卷曲。與傳統(tǒng)的制備紙質(zhì)和無紡布基材柔性裝飾貼面的工藝不同，塑料薄膜與裝飾貼面的粘合面經(jīng)過低溫等離子改性工藝，然后直接熱壓復(fù)合，無需粘合。進行或混合。
其結(jié)果是，薄膜去膠設(shè)備等離子體能量減弱的趨勢減少，它可以在空間中更廣泛地傳播。要制作真空室，您需要一個強大的氣泵。真空等離子技術(shù)不具備在線聯(lián)動功能。 2、高壓等離子技術(shù) 高壓等離子是由特殊的氣體放電管產(chǎn)生的。這種等離子體對于表面處理并不重要。 3、電暈處理技術(shù) 電暈處理是一種主要用于薄膜處理的高壓物理工藝。電暈預(yù)處理的缺點是表面活化能力比較低，處理后的表面效果可能不均勻。薄膜的背面也經(jīng)過處理，這可能是要避免的工藝要求。
塑料表面引起自由基反應(yīng)并使聚合物交聯(lián)。表面變得粗糙，薄膜去膠設(shè)備對極性溶劑的潤濕性提高。這些離子通過電擊滲透到印刷品的表面，并滲透破壞分子結(jié)構(gòu)。這會導(dǎo)致處理過的表面分子氧化和極化，從而導(dǎo)致離子沖擊侵蝕表面。提高基材表面的附著力。電暈處理具有時間短、速度快、操作方便、處理效果好、不污染處理液（與酸腐蝕法相比）等一系列優(yōu)點。目前廣泛用于塑料薄膜印刷復(fù)合前的表面處理。
塑料經(jīng)過電暈處理后，薄膜去膠表面由光滑變?yōu)榇植?，表面有許多細孔。當(dāng)膠粘劑（壓?。┩吭谒芰媳砻鏁r，通過分子擴散滲透進入塑料表面的孔隙中，固化后機械嵌入孔隙中，形成許多小的機械連接，會大大減少.粘合劑的粘合強度。過度的功率處理會使塑料表面過于粗糙，降低表面光澤度，損害塑料的光學(xué)性能。過度的電暈處理會降低薄膜的阻隔性能。此外，過度的電暈處理會造成漆膜粘連，特別是在炎熱的夏季，更容易出現(xiàn)漆膜粘連現(xiàn)象，使情況更加嚴重。
薄膜去膠設(shè)備
因此，在滿足印刷要求的前提下，在復(fù)合加工中要盡可能地進行電暈加工。降低電暈處理的強度（降低）以避免不必要的過度處理。與硫酸腐蝕法和火焰處理法相比，電暈處理法存在處理效果不穩(wěn)定的缺點。塑料經(jīng)過電暈處理后，表面張力明顯增加，但張力值很不穩(wěn)定。增加，表面張力值呈指數(shù)下降。電暈處理路線分為三種，第一種是薄膜制造過程中的電暈處理，第二種是印刷/層壓過程中的電暈處理，第三種是薄膜制造過程中的第一次電暈處理，然后進行。
2.等離子體發(fā)生器可用作化學(xué)催化劑。3、等離子發(fā)生器可用作高能離子流和電子流的來源。四。等離子體發(fā)生器可用作濺射粒子的來源。許多工藝都可以看到等離子發(fā)生器的這些基本特征。各地都逐漸形成了以等離子體為處理方式的基礎(chǔ)制造業(yè)。單一過程或多個過程的組合可以賦予等離子體多種用途。例如，在等離子體中，利用等離子體的化學(xué)合成形成新的化學(xué)物質(zhì)，利用粒子的聚合作用在表面沉積薄膜。
另一方面，材料的長分子鏈可以打開形成高能基團。外觀；吹氣會使薄膜表面出現(xiàn)小凹坑，以及離解和再離解表面的雜質(zhì)。電離時釋放的臭氧具有很強的氧化性，其目的是通過氧化去除附著的雜質(zhì)來增加鍍鋁基材膜的表面自由能，提高鍍鋁層的附著力。。請說明等離子體的產(chǎn)生與氣化的關(guān)系及其影響因素。等離子體是氣體分子在真空、放電和其他特殊場合產(chǎn)生的獨特現(xiàn)象和物質(zhì)。典型的等離子體由電子、離子、自由基和質(zhì)子組成。
PET薄膜材料。等離子清潔劑還可以提高 PET 薄膜材料的表面能。等離子清洗機加工可以在PET薄膜表面引入大量含氧極性基團，可以增加PET薄膜表面的自由能。并提高其表面的潤濕性、附著力、印刷適性等性能。當(dāng)PET薄膜材料用大氣噴射旋風(fēng)等離子清洗機處理時，PET薄膜表面會出現(xiàn)一些不規(guī)則的片狀結(jié)構(gòu)，而且隨著等離子清洗機處理時間的增加，薄膜表面也會增加。
薄膜去膠
被粘物的表面處理影響粘合強度，薄膜去膠設(shè)備因為它是由被粘物的氧化層（銹等）、鍍鉻層、磷酸鹽層、脫模劑等形成的“弱邊界層”增加。例如聚乙烯的表面可以用熱鉻酸處理以提高粘合強度，在70-80℃加熱1-5分鐘會得到良好的粘合表面。這種方法適用于聚乙烯板材。厚壁管等而聚乙烯薄膜經(jīng)過鉻酸處理后，只能在常溫下運行。當(dāng)在上述溫度下進行時，膜的表面處理通過等離子體或微框架處理進行。
