如何用人工方法制造等離子體除了現(xiàn)有的等離子體外，激光熔覆表面改性的內(nèi)容在一定范圍內(nèi)還可以用人工方法制造等離子體。1927年，當(dāng)汞蒸氣在高壓電場(chǎng)中放電時(shí)，等離子體首次被研究人員發(fā)現(xiàn)。后來的發(fā)現(xiàn)是，低壓下的氣態(tài)物質(zhì)可以通過各種形式轉(zhuǎn)化為等離子體，如電弧放電、輝光放電、激光、火焰或沖擊波等。

等離子體清洗通常采用激光、微波、電暈放電、熱電離、電弧放電等方式將氣體激發(fā)到等離子體狀態(tài)。在等離子體清洗應(yīng)用中，激光熔覆表面改性主要采用低壓氣體輝光等離子體。對(duì)一些非聚合無機(jī)氣體(Ar2、N2、H2、O2等）進(jìn)行高頻低壓激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)分子、自由基等的活性粒子，一般在等離子體清洗中，活性氣體可分為兩種，一種是惰性氣體等離子體（如Ar2、N2)，另一種是反應(yīng)氣體等離子體（如O2、H2)。

低溫在線等離子表面清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于在線手機(jī)、玻璃、電子電路、材料、造紙、紡織、服裝等行業(yè)。低溫在線等離子體表面處理設(shè)備中中性原子的溫度接近室溫，激光熔覆表面改性但電子的溫度可以達(dá)到2-10ev。此外，等離子體中的原子通過電離、復(fù)合、激發(fā)、跳躍等產(chǎn)生紫外線，其光子能量也在2～4ev范圍內(nèi)。很明顯，等離子體和激光中的粒子所提供的能量非常高。

一、等離子清洗設(shè)備在FPC工藝中的應(yīng)用在這個(gè)應(yīng)用方向，激光熔覆表面改性的內(nèi)容等離子清洗設(shè)備用于去除多層柔性板上的殘膠，去除軟硬板上的殘膠，HDI板上的激光通孔，去除盲孔和嵌入孔。去除殘?zhí)?，干膜留有?xì)紋形成，在層壓多層軟板和剛撓板前對(duì)PI等板表面進(jìn)行粗化處理，對(duì)軟板進(jìn)行加固處理 金表面清洗處理 前指和焊盤，化學(xué)沉金和鍍金。

激光熔覆表面改性