例如，電暈處理硅膠表面氧電暈氧化性高，可氧化光刻膠產(chǎn)生氣體，從而達(dá)到清洗效果；腐蝕氣體的電暈具有良好的各向異性，可以滿足刻蝕的需要。電暈處理會(huì)發(fā)出輝光，故稱輝光放電處理。真空電暈設(shè)備電暈處理的機(jī)理主要依靠電暈中活性粒子的“活化”來(lái)去除物體表面的污漬。

在pcb印刷電路板生產(chǎn)過(guò)程中具有良好的實(shí)用性，電暈處理硅膠表面是一種清潔、環(huán)保、高效的清洗方法。電暈表面處理技術(shù)是一種新型半導(dǎo)體制造技術(shù)。該技術(shù)在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域應(yīng)用較早，是必不可少的半導(dǎo)體制造工藝。因此，它是IC加工中一項(xiàng)長(zhǎng)期而成熟的技術(shù)。由于電暈是高能量高活性物質(zhì)，對(duì)任何有機(jī)材料都有很好的刻蝕效果，電暈制作是一種干法工藝，不會(huì)造成污染，因此近年來(lái)被廣泛應(yīng)用于pcb印制電路板的制作。

說(shuō)到汽車儲(chǔ)物箱，電暈處理機(jī)電暈機(jī)人們應(yīng)該會(huì)想到靜電植絨，那么低溫電暈在儲(chǔ)物箱植絨過(guò)程中能起到什么作用呢？以往在植絨過(guò)程中，通常在基材上膠前先涂一層底漆，這是為了方便膠水與收納盒更好地結(jié)合。低溫電暈表面處理技術(shù)可替代涂膠前的底漆涂裝工藝。據(jù)試驗(yàn)統(tǒng)計(jì)，電暈處理后的鍵合效果更好，降低了生產(chǎn)成本。

由于采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，電暈處理機(jī)電暈機(jī)可有效避免樣品的再次污染。電暈不僅能加強(qiáng)樣品的附著力、相容性和潤(rùn)濕性，還能對(duì)樣品進(jìn)行消毒殺菌。電暈已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微流體等領(lǐng)域。

電暈處理硅膠表面

金屬條一般為鋁薄或銅薄。原來(lái)的濕式乙醇清洗容易對(duì)鋰電池的其他部件造成損傷。干式電暈可以有效地解決上述問(wèn)題。。常用的電暈激勵(lì)頻率有三種：激勵(lì)頻率為40kHz的超聲電暈、激勵(lì)頻率為13.56MHz的射頻電暈和激勵(lì)頻率為2.45GHz的微波電暈。不同電暈的自偏壓不同，超聲電暈的自偏壓約為0V，射頻電暈的自偏壓約為250V，微波電暈的自偏壓很低，只有幾十伏。

根據(jù)電暈產(chǎn)生的條件，電暈可分為真空電暈或大氣電暈。真空電暈加工廣泛應(yīng)用于微電子領(lǐng)域，但在線處理要求大氣法。去除的污染物可能是有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、顆粒污染物等，實(shí)際上電暈器可以對(duì)樣品進(jìn)行表面改性，去除表面的有機(jī)物，從而實(shí)現(xiàn)各種材料的粘接和涂層。廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微流控等領(lǐng)域。。

（1）在晶圓制造中的應(yīng)用在晶圓制造中，光刻用四氟化碳?xì)怏w蝕刻硅片，電暈用四氟化碳去除氮化硅蝕刻和光刻膠。電暈可以在晶圓制造中用純四氟化碳?xì)怏w或氮化硅中的四氟化碳和氧氣去除微米光刻膠。(2)PCB制造應(yīng)用電暈蝕刻尤其早于電路板制造行業(yè)，在硬質(zhì)電路板和柔性電路板的生產(chǎn)過(guò)程中，傳統(tǒng)的工藝都是采用化學(xué)清洗。

我們應(yīng)該考慮這樣一個(gè)無(wú)碰撞的過(guò)程：熱運(yùn)動(dòng)速度&Nu；運(yùn)動(dòng)的電子，無(wú)論它們?nèi)绾芜M(jìn)入皮膚深度&δ；會(huì)在強(qiáng)感應(yīng)電場(chǎng)區(qū)域回到電暈中。電子通過(guò)這個(gè)電場(chǎng)區(qū)的時(shí)間&δ；/&nu；約等于或略小于高頻電壓周期2&pi；/&Omega；電子的加速和減速是隨機(jī)發(fā)生的，電子經(jīng)過(guò)統(tǒng)計(jì)平均后可以高效地獲得能量，這就是反常趨膚效應(yīng)。

電暈處理硅膠表面