1、金徠常壓等離子體技術(shù)與其他表面處理方法相比有哪些主要優(yōu)點(diǎn)?

     與其他表面活化方法相比，最主要優(yōu)點(diǎn)是具有高效率。 等離子體系統(tǒng)能夠非常容易地集成到現(xiàn)有生產(chǎn)線里，它環(huán)保，節(jié)約空間，還具有低運(yùn)行成本的優(yōu)勢(shì)。
2、起動(dòng)等離子預(yù)處理系統(tǒng)需要哪些條件?
     需要有電源(220V)以及壓縮空氣。還需要排風(fēng)系統(tǒng)。
3、生產(chǎn)速度可能達(dá)到多少？
     處理效果取決于材料的通過速度、與噴口部分之間的有效距離以及處理區(qū)域的面積大小。處理速度可達(dá)到100 m/min。當(dāng)處理EPDM-/ TPE 型材時(shí)，速度大約是30 m/min。
4、是否能夠通過金徠 等離子體技術(shù)取代原來的溶劑清洗方法？
     無數(shù)用戶的實(shí)踐已經(jīng)證明了這種等離子技術(shù)在表面活化和清潔的有效性方面，具有實(shí)際上的功能優(yōu)勢(shì)。采用等離子體技術(shù)就能夠替代傳統(tǒng)的溶劑方式，這樣就可以避免采用對(duì)環(huán)境有害的諸如苯或丙酮等溶劑。
5、為什么這項(xiàng)技術(shù)也能很好地用在復(fù)合材料上？
     通常，對(duì)復(fù)合材料的預(yù)處理非常困難，其原因是復(fù)合材料具有不同的電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率。在金徠等離子工藝過程里，產(chǎn)生的是低溫等離子火焰。采用這種方法的表面處理過程不會(huì)對(duì)復(fù)合材料產(chǎn)生任何負(fù)面效果。
6、為什么將等離子體系統(tǒng)集成到現(xiàn)有生產(chǎn)線會(huì)這么容易？
     等離子體噴嘴只占用非常小的空間，能夠很容易地裝入現(xiàn)有生產(chǎn)線。我們可以將等離子預(yù)處理工作站（等離子體噴嘴以及帶有排風(fēng)裝置的保護(hù)罩）和您自己的生產(chǎn)線及工況相匹配。
7、設(shè)備運(yùn)行成本和消耗有哪些？
     運(yùn)行成本只在于電能和壓縮空氣的消耗上，以及設(shè)備的常規(guī)維護(hù)成本。不需要昂貴的運(yùn)行補(bǔ)給和消耗品。
8、等離子體火焰熱不熱？
     等離子體與其他燃燒火焰（大約300°C）相比要冷的多。在大多數(shù)應(yīng)用場(chǎng)合，移動(dòng)材料溫度提高大約15 °C。
9、等離子工藝過程是否會(huì)散發(fā)毒性物質(zhì)？
     等離子體預(yù)處理期間不釋放臭氧。然而，對(duì)一些材料進(jìn)行預(yù)處理能夠產(chǎn)生氮氧化物和一氧化物。為健康和安全著想，應(yīng)當(dāng)配備排風(fēng)系統(tǒng)。完整的預(yù)處理設(shè)備已經(jīng)包括了排風(fēng)裝置。
10、金徠等離子體處理還需要特殊氣體嗎？
     除了電能和無油壓縮空氣，不需要其他物品。如果您沒有單獨(dú)的壓縮空氣設(shè)備，我們可以為您供應(yīng)相關(guān)的壓縮空氣裝置。
11、等離子束區(qū)域具有電擊的危險(xiǎn)嗎？
     噴嘴自己帶接地保護(hù)，能夠直接拿在手中。
12、在表面上的活化作用能持續(xù)多長(zhǎng)時(shí)間？
     對(duì)于這個(gè)問題，不能給出確切答案，原因是不同材料之間差距很大。剛處理后，具有最佳效果，而后會(huì)逐漸變小，并穩(wěn)定在較高水平。在理想環(huán)境下，應(yīng)當(dāng)在預(yù)處理后盡快執(zhí)行后續(xù)的如涂覆或上漆之類的生產(chǎn)步驟。與其他預(yù)處理方法相比，采用金徠等離子體的活化作用具有極長(zhǎng)時(shí)間的穩(wěn)定性。
13、噴嘴與需要處理的表面之間距離應(yīng)為多少？
     大約1至2 cm。如果有必要調(diào)整的話是非常容易的，在生產(chǎn)過程里的使用并不復(fù)雜。部件沒有機(jī)械磨損。
14、能否處理復(fù)雜或三維幾何外形？
     等離子體火焰能夠深入凹槽和狹小區(qū)域。角落處的預(yù)處理效果甚至還會(huì)增強(qiáng)。因而，您可以用來預(yù)處理平面表面，也可以用來預(yù)處理復(fù)雜外形。
15、等離子處理會(huì)改變材料質(zhì)量特性嗎？
     這種處理方法是一種表面處理方法，離子與材料表面起反應(yīng)。它并不改變質(zhì)量特性。