真空等離子清洗機清洗特點：

與濕法清洗相比，等離子清洗的優(yōu)勢表面在以下幾個方面：

（1 ）在經過等離子清洗之后，被清洗物體已經很干燥，不必再經干燥處理即可送往下道工序。

（2 ）不使用三氯乙甲 ODS 有害溶劑，清洗后也不會產生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。

（3）它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務，所不必過多考慮被清洗物體形狀的影響。

（4 ）整個清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點。

（5 ）等離子清洗的最大技術特點是，它不分處理對象，可處理不同的基材。無論是金屬、半 導體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯 乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚脂、環(huán)氧樹 脂等高聚物）都可用等離子體很好地處理。因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。

（6 ）在完成清洗去污的同時，還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等。

（7）自動化程度高;具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得到保證;由于是在真空中進行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。

等離子體清洗的機理

由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發(fā)生反應。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。

就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。